产品名称:往复样品台单靶磁控镀膜仪
产品型号:〓〓
供货厂商:浩逸科学仪器
〓 往复样品台单靶磁控镀膜仪〓
〼桌面型单靶磁控镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有小型化、标准化的特点。
〼磁控靶有1英寸、2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选择;所配电源为150W直流电源,可用于金属溅射镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。
〼仪器标配先进的涡轮分子泵组,极限真空可达1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。
〓桌面型单靶磁控镀膜仪适用范围〓
◇该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,经过小型化设计,高度集成,体积小巧,可以放置于桌面上使用,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
〓单靶磁控溅射镀膜仪技术参数〓
往复样品台 | 尺寸 | 50*100mm | |
往复速度 | 0~50mm/s | ||
磁控靶枪 | 靶材平面 | 圆形平面靶 | |
溅射真空 | 10Pa~0.2Pa | ||
靶材直径 | 2 英寸 | ||
靶材厚度 | 建议2~5mm | ||
靶头温度 | ≦65℃ | ||
真空腔体 | 腔体尺寸 | 约为Φ180mm × H 215mm | |
腔体材料 | 高纯石英 | ||
观察窗口 | 全向透明 | ||
开启方式 | 顶盖拆卸式 | ||
电源 | 直流电源功率 | *大150W | |
数量 | 1 | ||
分子泵系统 | 前级泵 | 旋片泵 | VRD-4 |
抽速 | 1.1L/S | ||
极限真空 | 5*10-1Pa | ||
分子泵 | 分子泵抽速 | 600L/S | |
额定转速 | 24000rpm | ||
极限真空 | 5*10-5Pa | ||
振动值 | ≦0.1um | ||
启动时间 | ≦4.5min | ||
停机时间 | <7min | ||
冷却方式 | 水冷+风冷 | ||
水冷机 | 冷却水温度 | ≦37℃ | |
冷却水流速 | 10L/min | ||
供电电压 | AC220V 50Hz |