产品名称:双靶磁控溅射镀膜仪(双膜厚仪)
产品型号:CY-MSP300S-2RF-2FG
供货厂商:浩逸科学仪器
〓CY-MSP300S-2RF-2FG 双靶磁控溅射镀膜仪(双膜厚仪)〓
▷双靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为300W射频电源加500W直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,射频电源可用于非金属膜的制备,两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要,可以定制直流电源和脉冲电源,各型电源均有300W到1000W多种规格可选。
▷镀膜仪具有两路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配先进的涡轮分子泵组,极限真空可达1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。
▷另外本型号配置配有两个高精度膜厚仪,能够满足镀膜过程中膜厚检测需要,若客户有需要安装多个膜厚仪的需要也可以和我公司技术人员进行定制。
▷本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。
〓双靶磁控溅射镀膜仪适用范围〓
▷该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
〓双靶磁控溅射镀膜仪技术参数〓:
双靶磁控溅射镀膜仪(双膜厚仪) | ||||
样品台 | 尺寸 | φ185mm | 控温精度 | ±1℃ |
加热温度 | *高500℃ | 转速 | 1-20rpm可调 | |
磁控溅射头 | 数量 | 2” ×2 (1”,2”可选) | 水冷机规格 | 10L/min流速的循环水冷机 |
冷却方式 | 水冷 | |||
真空腔体 | 腔体尺寸 | φ300mm ×300mm | 观察窗口 | φ100mm |
腔体材料 | 不锈钢 | 开启方式 | 上顶开式 | |
质量流量计 | 2路;量程100sccm;100sccm(可根据客户需要定制多路气路) | |||
真空系统 | 产品型号 | CY-GZK103-A | 抽气接口 | KF40 |
分子泵 | CY-600 | 排气接口 | KF16 | |
前极泵 | 旋片泵 | 真空测量 | 复合真空计 | |
极限真空 | 1.0E-5Pa | 供电电源 | AC;220V 50/60Hz | |
抽气速率 | 分子泵:600L/S 旋片泵:1.1L/S 综合抽气性能:20分钟真空度可达: 1.0E-3Pa | |||
电源配置 | 数量 | 射频电源1个,直流电源1个 | *大输出功率 | 射频电源300W ,直流电源500W |
其他 | 供电电压 | AC220V,50Hz | 整机尺寸 | 600mm × 650mm × 1280mm |
整机功率 | 2.5KW | 整机重量 | 300kg | |