产品名称:PECVD镀膜仪
产品型号:CY-PECVD-450
供货厂商:浩逸科学仪器
〓PECVD镀膜仪介绍〓:
◇CY-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,能够利用高能量等离子体促进反应过程,有效提升反应速度,降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
〓CY-PECVD-450 PECVD镀膜仪〓
〓技术参数〓:
产品型号 | CY-PECVD-450 |
真空腔体 | 前开门式,φ300mm X 300mm 不锈钢材质 观察窗:φ100mm 带挡板 |
真空泵组 | 前级泵:旋片泵 抽速1.1L/s 次级泵:涡轮分子泵 抽速600L/s |
极限真空度 | 10-6Pa 三十分钟内可达到 10-4Pa |
沉积真空 | 0.133~133Pa,可根据工艺调整 |
射频电源 | 13.56MHz,500W,自动匹配 |
流量控制 | 质量流量计,默认 Ar气 0~200sccm |
整机尺寸 | 1100mm x 800mm x1100mm |