双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪CY-HV-2H系列可定制

产品名称：双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪

产品型号：CY-HV-2H

供货厂商：浩逸科学仪器

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪介绍：

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪紧凑型磁控溅射系统，具有双靶2"目标源，例如，一个直流源用于涂覆金属薄膜，另一个射频源用于涂覆非金属材料。双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪设计用于涂覆单层或多层薄膜，适用于各种材料，如合金、铁电、半导体、陶瓷、电介质、光学、聚四氟乙烯等。

CY-HV-2H 双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪主要特点：

1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪技术规格：

输入功率	单相220 VAC 50 / 60 Hz, 2000 W (包括真空泵和冷水机组)
电源	两个溅射电源集成在一个控制箱中。直流电源：用于涂覆金属材料的500 W功率。射频电源：300 W功率，13.56 MHz频率，用于涂覆非导电材料。
磁控溅射头	包括两个带有水冷套和百叶窗的2“磁控溅射头。此产品页面中还提供了一个溅射头型号（在产品选项中）。一个连接到直流电源以涂覆金属材料另一个连接到用于非导电材料的RF源靶尺寸要求：2“直径厚度范围：0.1 - 5 mm，适用于金属和非导电目标（包括背板）包括一个不锈钢靶目标和一个研究级Al2O3靶用于样品测试定制涂膜机：两个不带射频的直流头; 两个没有DC的RF头; 可根据要求提供3个RF头。
真空室	真空室：直径300毫米×300 mm高度，由不锈钢制成视口：两片100毫米直径玻璃。一个固定；一个可拆卸清洁和更换带气动电源杆的铰接式盖子可轻松更换靶
样品台	样品架是可旋转且可加热的台架，由带铜盖的陶瓷加热器制成样品架尺寸：140 mm直径对于4"晶圆max 转速：1 - 20 rpm可调，均匀涂层通过数字温度控制器，支架温度可在*高温度范围内调节至zui高500°C（max2小时），精度为+/- 1.0°C
气体流量控制	安装了两个精密质量流量控制器（MFC），允许两种类型的气体进入流量: 0 – 200mL/min可在触摸屏控制面板上调节安装进气阀以进行真空释放
真空泵站	包括移动泵站，溅射涂膜机可以放置在工位底部速度为80L/S的高速涡轮泵与两级机械泵（220 L / min）相结合，可实现更大真空水平和更快的抽速。与腔室连接的标准真空度：<4.0E-5 Torr。（带腔室烘烤的1.0E-6托）。
水冷装置	包括一个数字温控循环冷水机组制冷范围: 5~35 °C 流速: 16 L/min 泵压: 14 psi
整体尺寸	盖子关闭: 48" × 28" ×32" 盖子打开: 48" × 28" × 37"
净重	160 kg
售后服务	货物发出后，CYKY提供一年免费售后服务，服务方式限于电话指导、视频指导、邮件指导、配件邮寄等远程技术支持。如需要派人现场服务，客户需要支付服务人员差旅费和出差期间的工资。

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