产品名称：真空磁控溅射镀膜系统
产品型号：CY-TRP
供货厂商：浩逸科学仪器
真空磁控溅射镀膜系统介绍：
真空磁控溅射镀膜系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（三个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。真空磁控溅射镀膜系统广泛应用于科研院所，实验室制备单层或多层薄膜，以及新材料新工艺研究。
CY-TRP 真空磁控溅射镀膜系统
真空磁控溅射镀膜系统设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
真空磁控溅射镀膜系统技术参数：
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真空室 | 圆筒型前开门结构，尺寸Ø450×40mm | |
真空系统配置 | 复合分子泵、机械泵、气动闸板阀、进口SMC气缸节流阀 | |
极限压力 | ≤6.6 *10-6 Pa。（经烘烤除气后） | |
恢复真空时间 | 25 分钟可达到≤6.6×10-6 Pa。（短时间撰兹大气并充入干燥氮气后开始抽气） | |
磁控靶组件 | 永磁靶三套；靶材尺寸Ø60mm（其中一个可溅射磁性材料）；各靶射频滩射和直流裁射兼容；靶内水冷；三个靶可共同折向上面的样品中心；靶与样品距离 90~130mm可调；每个靶配进口 SMC 旋转气动挡板 | |
单基片加热台 | 样品尺寸 | Ø4英寸 |
运动方式 | 基片可连续回转，转速 0－30 转/分 | |
加热 | 进口加热丝加热，zui高加热温度 600℃ ±1℃ | |
挡板形式 | 进口 SMC 转角气缸控制 | |
气路系统 | 质 量 流 量 控制器 2 路 | |
计算机控制系统 | 采用 PLC ＋工控机＋触摸屏全自动控制方式 | |
可选配件 | 膜厚仪、气泵、水冷循环机 | |
设备占地面积 | 主机 | I000×1800mm2 |
电控柜 | 900×600mm2 | |
