技术，将去离子水中的氢气分离并提纯，为CVD设备提供超高纯的氢气气源型号流速cc/min纯度H2干燥系统压力尺寸(W x H x D)应用MF.H2.110110。)
技术，将去离子水中的氢气分离并提纯，为CVD设备提供超高纯的氢气气源型号流速cc/min纯度H2干燥系统压力尺寸(W x H x D)应用MF.H2.110110。)
产品名称：超高纯氢气发生器用于培育钻石
产品型号：CY-MC-H2
供货厂商：浩逸科学仪器
超高纯氢气发生器用于培育钻石介绍：
超高纯氢气发生器运用先进且**拥有的100%钛金属质子交换膜(PEM)技术，将去离子水中的氢气分离并提纯，为CVD设备提供超高纯的氢气气源
CY-MC-H2 超高纯氢气发生器用于培育钻石
超高纯氢气发生器运用先进且 **拥有的100% 钛金属质子交换膜(PEM) 技术， 将去离子水中的氢气分离并提纯，为CVD设备提 供超高纯的氢气气源。
独特的设计让运行更加稳定可靠，并保证更长的 使用寿命。发生器可24小时连续稳定地工作，开 机时自动检查内部泄漏，自动控制装置的运行参 数，保证**启动。
触摸屏LCD界面提供简单且清晰可见的运行信息， 让用户便捷地掌控和管理发生器。
产品特点 :
钯催化剂降低O2＜0.01ppm，水分＜1ppm，氢气纯度可达99.99999%（7N）
**冷双动态再生干燥器：去除水分和氧 气，无需监控、更换和购买干燥剂筒，无需 加热
通过USB进行远程PC监控和诊断分析，将设备与客户的PC软件连接（需要通过远程连接，才能有效地进行检查和维护）压力高达11bar(160psi)
显示水质状态：当水质变“**＂时及时出现报警提示
联机产氢：可以通过软件控制实现多台发生 器并联产氢(集中供气)，提供稳定的流量和压力、自动分配氢气，无需外接繁多的气体 控制机件，为您降低投入成本
对部分重要部件具有独立跟踪检测功能并及时提示，在确保正常运行的同时将零部件使 用时间*大化
型号及技术规格:
型号 | 流速 cc/min | 纯度 | H2干燥系统 | 压力 | 尺寸 (W x H x D) | 应用 |
MF.H2.110 | 110 | > 99.99999 % (O2< 0.1 ppm, 露点< -75°C) | 自动再生干燥柱 （免维护） | 11 bar (160psi) | 27 x 44 x 38 cm | GC载气以及检测器燃烧气； GC-MS 载气 |
MF.H2.170 | 170 | |||||
MF.H2.260 | 260 | |||||
MF.H2.300 | 300 | |||||
MF.H2.400 | 400 | |||||
MF.H2.500 | 500 | |||||
MF.H2.600 | 600 | |||||
MF.H2.1000 | 1000 | |||||
MF.H2.1200 | 1200 | |||||
MF.H2.1350 | 1350 | |||||
MD.H2.110 | 110 | >99.9996 % (O2<1 ppm, 露点< -55°C) | 干燥剂筒 （手动更换） | 7 bar (101 psi) | 27 x 44 x 38 cm | GC检测器燃烧气 |
MD.H2.170 | 170 | |||||
MD.H2.260 | 260 | |||||
MD.H2.300 | 300 | |||||
MD.H2.400 | 400 | |||||
MD.H2.500 | 500 | |||||
MD.H2.600 | 600 | |||||
MB.H2.110 | 110 | >99.9996 % (O2<1 ppm, 露点<-20°C) | 特殊干燥膜 （免维护） | 7 bar (101psi) | 27 x 44 x 38 cm | GC检测器燃烧气 |
