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双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)CY-MSP500S-DCRF-B系列
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双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)CY-MSP500S-DCRF-B系列
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)CY-MSP500S-DCRF-B系列
推荐指数:5 星
双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)介绍:双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)采用靶下置样品台在上方的布局,双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位,直流射频双电源,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜。
45000.00
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  • 更新时间: 2022-12-28 16:50 2022-12-28 16:50

产品名称:双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)

产品型号:CY-MSP500S-DCRF-B

供货厂商:浩逸科学仪器

双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)介绍:

双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)采用靶下置样品台在上方的布局。双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)两个靶位,直流射频双电源,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜。

详情介绍:CY-MSP500S-DCRF-B双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪,设备配有一台直流电源,一台射频电源,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。本型号采用靶下置布局,样品台在上方,与靶面高度可通过程序**可调,并且可旋转加热,性能优异。

名称

双靶DCRF磁控溅射镀膜仪(靶下置型)
型号
CY-MSP500S-DCRF-B
特点
1.能量高速度快
2.采用靶下置布局,样品台在上方,
3.基片与靶面高度可通过程序**可调,并且可旋转加热
4.采用单靶独立、多靶轮流或组合共溅,向心溅射
5.用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系
6.PC+PLC全自动控制
技术参
1. 供电电压 AC220V,50Hz
2. 整机功率 6KW
3. 极限真空度 5x10-4Pa
4. 载样台参数
尺寸 φ150mm;加热温度 *高500℃;控温精度 ±1℃;高度:上下70mm可调,转速 1-20rpm可调
5. 磁控溅射头参数
数量 2个2”磁控溅射头;冷却方式 10L/min流速的循环水冷机
6. 真空腔体
尺寸 φ500mm X 490mm H; 材料 不锈钢; 观察窗口 φ100mm;上顶开式,便于更换靶材
7. 气体流量控制器 1路200sccm Ar;
8. 真空泵 配有一套分子泵系统,抽速600L/S
9. 膜厚仪 石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 Å
10. 溅射电源(1DC 1RF)
直流电源,500W,适用于制备金属膜
射频电源,500W,适用于非金属镀膜
11. 操作方式 一体机电脑操作
规格
整机尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm
整机重量 350kg




便捷服务

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    由于仪器仪表设备型号复杂,客户采购的相关产品售后及维修政策各有不同,按照实际签订的协议执行。

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    (2)到货物流损坏或缺件:经我方客服人员核查且情况属实。

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    (3)根据客户要求定制、改装以及在产品上添加特定文字、标志等的产品。

    (4)过保产品(超过三包保修期的产品)。

    (5)未经授权的维修、误用、碰撞、疏忽、滥用、进液、事故、改动、不正确的安装所造成的产品质量问题,或撕毁、涂改标贴、机器序号、防伪标记。

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    4.如厂家在商品介绍中有售后保障的说明,则此商品按照厂家说明执行售后保障服务。

    暂无商品规格
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