产品名称:双靶磁控溅射镀膜仪(射频)
产品型号:CY-MSP300S-2RF
供货厂商:浩逸科学仪器
双靶磁控溅射镀膜仪(射频)介绍:
双靶磁控溅射镀膜仪(射频)高速低温溅射实验室专用镀膜仪,双靶磁控溅射镀膜仪(射频)可选配功率从500W-1000W不等的射频电源。
CY-MSP300S-2RF 双靶磁控溅射镀膜仪(射频)
CY-MSP300S-2RF双靶磁控溅射镀膜仪(射频)为我公司研发的实验室专用镀膜仪,设备可选配直流电源,和射频电源,功率从500W-1000W不等,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。
设备经过紧凑化设计,实现了体积与性能的平衡,造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制,内置一键式镀膜程序,操作简单易上手,是一款实验室制备薄膜的理想设备。
名称 | 双靶磁控溅射镀膜仪(射频) |
型号 | CY-MSP300S-2RF |
特点 | 1.能量高速度快 2.磁控靶配有水冷夹层避免热量在靶面聚集 |
技术参数 | 1. 供电电压 AC220V,50Hz 2. 整机功率 6KW |
规格 | 整机尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm 整机重量 350kg |