产品名称:离子源电子束蒸发镀膜仪
产品型号:〓〓
供货厂商:浩逸科学仪器
离子源电子束蒸发镀膜仪介绍:
该电子束蒸发方式镀膜仪,主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜
〓〓 离子源电子束蒸发镀膜仪
该电子束蒸发方式镀膜仪,主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。
电子束蒸发镀膜仪设备技术参数
使用条件 环境温度 5℃~40℃ 电源 380V 功率 ≤20KW 水压 ≤2.5bar 真空室尺寸 蒸发室尺寸 φ500×H500(㎜) 过渡仓库 φ280×H300(㎜) 电子枪 新型电子枪1套,6穴坩埚 离子源 考夫曼离子源K08一套 样品转盘 样品尺寸:≤φ150mm,样品可旋转,也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃ 系统真空度 极限真空 经12~24小时烘烤,连续抽气≤5x10-5Pa 抽气速率 从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa 系统漏率 整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后,测量真空室真空度≤10Pa 抽真空系统 TY1200分子泵+机械泵(VRD-30)系统,并设置旁路抽气 镀膜监测 采用TM160膜厚仪进行监测 镀膜厚度的不均匀度 ≤3%