产品名称：双靶磁控及蒸发复合镀膜仪
产品型号：CY-MS500S-2TA1S
供货厂商：浩逸科学仪器
双靶磁控及蒸发复合镀膜仪介绍：
双靶磁控及蒸发复合镀膜仪不锈钢真空腔体、磁控溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。双靶磁控及蒸发复合镀膜仪可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。
CY-MS500S-2TA1S 双靶磁控及蒸发复合镀膜仪
CY-MS500S-2TA1S双靶磁控及蒸发复合镀膜仪可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜）的样品制备。
设备主要由不锈钢真空腔体、磁控溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。
设计特色
1. 设备主机采用触摸显示屏操作，温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。
2. 真空室采用下置靶设计，样品台具有加热和旋转但是功能，可以使镀膜效果更加均匀。
3. 设备真空获得系统采用两级真空泵组，前级泵为大抽速机械泵，有效缩从常压至低真空的时间，主泵为涡轮分子泵，抽速高，真空获取速度更快。 整体真空获得系统干净快速。
4. 真空腔体采用304不锈钢制成，配有观察窗口及挡板。造型美观做工精细，真空性能优异。
5. 主要密封法兰采用 CF系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封，真空性能优良，能有效保证镀膜质量。
技术参数
样品台
样式一：尺寸150mm，加热温度≤500℃ 控温精度±1℃， 旋转速度1-20r/min
样式二：尺寸φ150mm，高度 上下70mm精准可调，旋转速度1~20rpm，加热温度 0~500℃ 磁控溅射头 数量 2英寸 x2 冷却方式 水冷 蒸发系统 蒸发源 钨丝篮 *高温度 1500℃ 热电偶 S型热电偶 真空腔体 腔体尺寸 φ300mm X 300mm 观察窗口 φ100mm 腔体材料 304不锈钢 开启方式 前开门式 真空系统 机械泵 旋片泵 抽气接口 KF16 抽气速率 1.1L/s 分子泵 涡轮分子泵 抽气接口 CF150 抽气速率 600L/s 排气接口 KF40 真空测量 电阻规+电离规 极限真空 1.3x10-4Pa 供电电源 AC;220V 50/60Hz 电源配置 直流电源数量 1台 输出功率 ≤1000W 输出电压 ≤600W 响应时间 ＜5ms 射频电源数量 1台 输出功率 ≤1000W 功率稳定度 ≤5W 射频功率 13.56MHz 射频稳定度 ±0.005% 膜厚监控系统 膜厚仪测量分辨率 ±0.03Hz 测量精度 ±0.5% 测量上限 50000 测量速度 100~1000ms 水冷系统 水箱容积 9L 流量 10L/min 供气系统 流量计类型 质量流量计 量程 200sccm 气体类型 Ar气 其他 供电电压 AC220V,50Hz 整机尺寸 1400x750x1300mm 整机功率 4kw（主机+真空泵） 整机重量 295kg 
