产品名称：可程控磁控溅射镀膜仪
产品型号：CY-PLC
供货厂商：浩逸科学仪器
可程控磁控溅射镀膜仪介绍：
可程控磁控溅射镀膜仪为单腔室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等组成。可程控磁控溅射镀膜仪
CY-PLC 可程控磁控溅射镀膜仪
可程控磁控溅射镀膜仪由工控机和PLC实现控制，有自动和手动控制两种模式。除取放样品外，其它操作过程全部在触摸屏上实现；提供真空系统、溅射工艺设置、充放气系统等人机操作界面；在工控机上可通过配方设置参数，实现对程序工艺过程和设备参数的设置。
可程控磁控溅射镀膜仪设备用途：
该产品可广泛应用于半导体、LED和光伏等行业，主要用于各种金属、半导体及介质材料的薄膜制备，可满足科研兼小批量生产需要。
可程控磁控溅射镀膜仪技术参数：
免责声明：本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)，仅供参考。可能由于更新不及时，会造成所述内容与实际情况存在一定的差异，请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，本公司会不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知，请您见谅。
溅射室极限真空 | ≤8.0×10-6Pa | |
恢复真空时间 | 系统从大气抽至1.0×10-3 Pa≤15min | |
均匀性 | 膜厚不均匀性≤±5%；片间不均匀性≤±5%；批次间不均匀性≤±5% | |
溅射真空室 | 圆筒形结构，尺寸Ф800mm×250mm | |
磁控溅射系统 | 永磁靶4支，靶材尺寸6英寸； 配1台进口电源（射频或直流脉冲可选）； 溅射速率：0.5～5埃/秒（靶材Al） | |
公转基片台 | 6英寸6片，（4英寸12片或3英寸16片）； 基片公转3～15转/分，连续可调，可选配公自转复合工件台 | |
光加热系统 | 样品加热温度：室温～250℃，连续可调； 基片温度不均匀性：≤±10℃； 控温方式为PID自动控温及数字显示，配备进口控温表 | |
工作气路 | 2路质量流量控制器气路 | |
抽气机组成 | 低温泵（进口）、罗茨干泵机组、气动闸板阀（进口）、管路等 | |
真空测量 | 2个真空计（进口）对系统真空、工作真空及前级真空进行**检测；真空度在工控机触膜屏上可直观显示；可准确监控溅射镀膜工艺过程的真空度 | |
控制系统 | 系统由工控机（触摸屏）和进口PLC实现对整个系统的控制 | |
占地面积 | 主机 | 1500×1000mm2 |
电控柜 | 700×700mm2（一个） | |
